顆粒在線訊:中國科學院金屬研究所沈陽材料科學國家研究中心研究員馬秀良、張波以及博士生魏欣欣等,利用在過鈍化電位下的陽極極化處理,在不破壞不銹鋼鈍化膜的同時實現了對金屬表面原子構型的重構,使不銹鋼在酸中的活化時間最高延長了兩個數量級,大幅度提升了鈍化膜的穩(wěn)定性及不銹鋼的耐蝕性能。2月7日,相關研究成果以Enhanced corrosion resistance by engineering crystallography on metals為題,在線發(fā)表在《自然-通訊》(Nature Communications)上。
不銹鋼表面幾納米厚的鈍化膜賦予其優(yōu)良的耐腐蝕性能。鈍化膜的穩(wěn)定性是決定不銹鋼耐蝕性的重要因素,也是腐蝕領域備受關注的基本科學問題之一。1930年,科學家發(fā)現了一個有趣的實驗現象,鐵表面的氧化膜在稀酸中很快發(fā)生溶解失效,但當將其從鐵基體剝離轉移到塑料載體上時,就可以在稀酸溶液中保持相當長時間免遭腐蝕,這一實驗現象說明了氧化膜與金屬基體的電接觸對于氧化膜的穩(wěn)定性具有重要影響。1962年,有學者提出還原溶解理論對這一現象進行了合理的解釋,認為表面氧化膜下的鐵基體發(fā)生氧化溶解,同時氧化膜發(fā)生還原溶解,且金屬基體的氧化溶解速率決定氧化膜的還原溶解速率。由于該過程的速度控制步驟發(fā)生在氧化膜與金屬界面處,這意味著界面結構可能對鈍化膜的穩(wěn)定性有顯著影響。長期以來,關于金屬鈍化膜穩(wěn)定性的研究集中在鈍化膜自身的特性,鈍化膜與金屬的界面原子構型對鈍化膜穩(wěn)定性的影響鮮有關注,二者之間的關系尚未建立。
研究小組使用像差校正透射電子顯微鏡,對比在稀硫酸溶液中浸泡前后的FeCr15Ni15單晶合金表面鈍化膜的剖面顯微圖像發(fā)現,原子尺度平直的鈍化膜/基體界面變得起伏,這說明在界面處發(fā)生了基體的非均勻溶解,在實驗上證實了還原溶解理論的合理性;研究發(fā)現起伏界面都沿著密排的{111}面,說明界面處基體的溶解具有與晶體學取向相關的各向異性,沿[111]方向的溶解速率最慢。
基于這一實驗現象,研究利用在過鈍化電位下的陽極極化處理,促進金屬在界面處的陽極溶解過程,并抑制表面鈍化膜的還原溶解過程,實現了在不破壞鈍化膜的同時對異質界面原子構型進行重構。研究運用像差校正透射電子顯微術、掃描電子顯微術及原子力顯微術等多尺度微結構分析手段,發(fā)現鈍化膜/基體界面處發(fā)生的非均勻溶解導致金屬表面產生大量高低起伏的由{111}面作為外表面的納米多面體,起伏的基體表面由均勻連續(xù)的氧化膜覆蓋(圖1-2)。腐蝕性能測試表明,過鈍化處理的單晶合金和商用304不銹鋼在酸中的活化時間最高延長了兩個數量級,在鹽水溶液中的點蝕擊破電位顯著提高(圖3)。
通常認為,過鈍化處理是一種腐蝕破壞過程。然而,上述研究結果表明特定過鈍化電位下的陽極極化處理會產生類似“優(yōu)勝劣汰”的作用,在鈍化膜/基體界面處留下大量的{111}面,將商用合金中的隨機活性晶界修飾為由{111}面構成的惰性晶界,從而顯著提高材料的耐腐蝕性能。
該研究實現了原子尺度的界面重構,提高了鈍化膜的穩(wěn)定性及材料宏觀耐腐蝕性能,建立了界面原子構型與鈍化膜穩(wěn)定性的關聯,為進一步提高不銹鋼的耐蝕性提供了新的思路和方法,并在原子尺度上對過鈍化機制給予了新的認識和理解。這一成果是繼揭示氯離子擊破鈍化膜機制(Nature Communications,2018)后,該團隊在鈍化膜研究方面的又一項重要進展。
研究工作得到國家自然科學基金、中科院前沿科學重點研究計劃等的資助。
圖1.金屬/鈍化膜界面的晶面重構。a-b:單晶合金在0.5 mol L-1 H2SO4溶液中0.4V/SCE鈍化900s和4500s的HAADF-STEM像;c-d:單晶合金在0.5 mol L-1H2SO4溶液中先在0.4V/SCE下鈍化900s,而后在1.1V/SCE過鈍化3600s的HAADF-STEM像;e-f:SEM圖像表明過鈍化處理在(110)表面及(001)表面上形成不同外形的凹坑;g-j:不同表面上凹坑的局部放大圖及示意圖;k-l:鈍化和過鈍化表面的AFM圖像;m、過鈍化后的形貌示意圖,表面的起伏由密排的{111}晶體學面構成
圖2.過鈍化處理將界面修飾成由密排{111}晶體學面構成的低能界面。a、起伏界面的HAADF-STEM像;b-d:圖a中標示位置的局部放大圖
圖3.低能密排界面提高材料的耐還原溶解及抗點蝕能力。a、室溫下FeCr15Ni15單晶合金在5.6 mol L-1H2SO4溶液中的開路電位衰減曲線,密排{111}界面的形成顯著延長了活化時間;b、活化時間的累計概率分析;c、不同條件處理的FeCr15Ni15單晶合金在3.5%NaCl溶液中(50℃)的動電位極化曲線;d、點蝕電位的累計概率分析
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