近期根據(jù)臺(tái)積電聲明，為迎接臺(tái)積電3nm廠(chǎng)研發(fā)及先期量產(chǎn)，臺(tái)灣政府方面于本月11日初審?fù)ㄟ^(guò)了竹科寶山用地?cái)U(kuò)建計(jì)劃，臺(tái)積電將會(huì)把2nm廠(chǎng)研發(fā)及量產(chǎn)工藝落戶(hù)在竹科新廠(chǎng)區(qū)，預(yù)計(jì)2024年投入生產(chǎn)。

為打造半導(dǎo)體人才聚落，臺(tái)積電盼以竹科作為未來(lái)先進(jìn)制程重要基地，擴(kuò)大新竹園區(qū)范圍，預(yù)計(jì)在新竹園區(qū)南側(cè)、新竹縣寶山鄉(xiāng)分作東側(cè)園區(qū)及西側(cè)社區(qū)兩部分?jǐn)U建，總面積約33公頃，可望引進(jìn)產(chǎn)業(yè)活動(dòng)人口約2,300人。

臺(tái)積電表示現(xiàn)有RD廠(chǎng)只能做到5nm，3nm以下廠(chǎng)房標(biāo)準(zhǔn)、高度，必須配合新規(guī)定而擴(kuò)大廠(chǎng)房。并且強(qiáng)調(diào)臺(tái)積電RD工程師約有7,000位，必須把這些工程師人才留在新竹。

臺(tái)積電表示未來(lái)如何把RD工程師轉(zhuǎn)換到先進(jìn)2nm廠(chǎng)才是重點(diǎn)，因準(zhǔn)備土地要花三到五年時(shí)間，從現(xiàn)在考慮到五年后，也就是說(shuō)，假設(shè)2nm廠(chǎng)須放在新竹，才能把部分工程師從研發(fā)轉(zhuǎn)換到工廠(chǎng)，保證不會(huì)出現(xiàn)人才流失的現(xiàn)象。

臺(tái)積電創(chuàng)辦人張忠謀先前曾表示，3nm制程將在2年內(nèi)開(kāi)發(fā)成功。而關(guān)于2nm工藝所需要的技術(shù)和材料，臺(tái)積電并未透露。

在實(shí)現(xiàn)2nm工藝之前，臺(tái)積電還要接連經(jīng)歷7nm、6nm、5nm、3nm等多個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。

其中，臺(tái)積電的7nm 工藝將首次引入EUV極紫外光刻技術(shù)，目前已即將量產(chǎn)；而6nm只是7nm的一個(gè)升級(jí)版，預(yù)計(jì)明年第一季度試產(chǎn)；5nm工藝將全面導(dǎo)入EUV光刻，已經(jīng)開(kāi)始風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn)，明年底之前有望實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，蘋(píng)果A14、AMD五代銳龍（Zen 4都有望采納）；3nm有望在2021年試產(chǎn)、2022年量產(chǎn)。三星也早就規(guī)劃到了3nm，預(yù)期2021年量產(chǎn)。